| 1978 |
Entwicklung der PulsPlasma® Technologie mit dem Ziel, die allseits bekannten Probleme des DC Plasmanitrierens, wie Lichtbogenbildung und ungleichmäßige Temperaturverteilung zu beheben. |
| 1983 |
Lieferung der ersten Anlage zum PulsPlasma® Nitrieren, die noch heute im Betrieb ist.
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| 1985 |
Lieferung der ersten Anlage für die industrielle Entwicklung der PA CVD Technologie zur TiN Beschichtung.
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| 1986 |
Gründung der PlaTeG GmbH (PlaTeG) in Siegen und Bau der weltweit ersten industriellen PulsPlasma® Nitrieranlage mit Heißwandkammer.
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| 1989 |
Lieferung einer Industrie-Anlage für PA CVD Beschichtung. |
| 1990 |
Lieferung der ersten PulsPlasma® Nitrieranlage für den nordamerikanischen Markt. |
| 1993 |
Bau und Lieferung von Anlagen zum Reinigen und Aktivieren mit RF/HF Plasma-Anregung. |
| 1994 |
Umzug in größere Fertigungs- und Büroräume |
| 1996 |
Bau einer Anlage für das Reinigen von Plastik- und Metallteilen. Diese Anlage ist eine Kombination aus konventioneller Reinigungstechnik auf Alkoholbasis und Feinreinigung mit Hilfe von RF und DC Plasma-Anregung. |
| 1997 |
Lieferung einer Produktionsanlage inklusive Verfahrenstechnik für die PA CVD Beschichtung von Stanzwerkzeugen (TiN, TiC).
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| 1998 |
Lieferung der ersten PA CVD-Anlage für den asiatischen Markt.
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| 2000 |
Entwicklung und Lieferung der weltweit größten Anlage zum Plasmasterilisieren
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| 2001 |
Lieferung der weltweit größten Anlage zum Plasmaaktivieren von Kunststoffteilen der Automobilindustrie
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| 2002 |
Vergrößerung der Fertigungs- und Büroflächen auf das Vierfache der bisherigen Größe.
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Anmerkung:
Insgesamt mehr als 100 Anlagen oder grundlegende Anlagenkomponenten wurden an Kunden in Europa, Nord Amerika und Asien geliefert. |
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| "Begnüge dich nicht mit einer Kopie - Wir haben das Original"
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